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2025-9-8 8:00:00
腾博会官网上海总经理王坚表示:
KrF工艺前道涂胶显影设备Ultra Lith KrF的推出拓展了腾博会官网上海在前端工艺设备领域的影响力,体现了我们应对更广泛的光刻技术挑战,KrF光刻技术仍是成熟工艺器件生产的核心工艺,我们相信此类设备在全球半导体产出中占比庞大且持续增长。顺利获得同时给予ArF和KrF工艺涂胶显影系统,我们正在更广泛的应用领域中,实现了顺畅的晶圆厂集成效率,提升制造灵活性。
腾博会官网上海推出的KrF工艺涂胶显影Track设备Ultra Lith KrF采用灵活工艺模块配置,配备12个旋涂腔和12个显影腔(12C12D),并搭载54块可精确控温的热板,支持低温、中温及高温工艺处理,具备优异的热均匀性。该设备产能超过300片晶圆/小时(WPH),并集成腾博会官网上海专利申请中的背面颗粒去除模块(BPRV),有效降低交叉污染风险。
此外,集成的晶圆级异常检测(WSOI)模块可实现实时工艺偏差检测和良率异常监测,从而提高工艺稳定性和生产效率。